目次
総論 Ｃａｔ‐ＣＶＤ法の誕生、期待とその課題（Ｃａｔ‐ＣＶＤ法の誕生；Ｃａｔ‐ＣＶＤ膜の特徴 ほか）
第１章 基礎編（低温成膜の物理とＣａｔ‐ＣＶＤ―フィラメント表面での化学反応の評価；気相中のラジカル種の定量 ほか）
第２章 Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置（大型Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置；簡易型Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置 ほか）
第３章 応用編（ＳｉＮ―ＬＳＩトランジスターへの応用；レジストエッチング―水素ラジカルによるレジスト除去 ほか）
第４章 材料各論（アモルファスおよび微結晶Ｓｉ；エピタキシャルＳｉＣ ほか）
著者等紹介
中山弘［ナカヤマヒロシ］
大阪市立大学工学研究科教授。（株）マテリアルデザインファクトリー（ＭＤＦ）代表取締役（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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