目次
第１章 フォトマスク技術の基本
第２章 半導体フォトマスク
第３章 電子部品用マスク
第４章 先端フォトマスク技術
第５章 ＮＧＬマスク技術
第６章 マスク産業の現状
第７章 リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し
著者等紹介
田邉功［タナベイサオ］
１９６１年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻（現情報画像工学科）卒業。１９６１―８１年（株）日立製作所：カラーＴＶ用シャドウマスク、ＩＣ、ＬＳＩ用フォトマスクの開発、生産に従事（武蔵工場マスク課長）。１９８１―８９年ＨＯＹＡ（株）：ＬＳＩ、ＬＣＤ用フォトマスクの事業化（八王子工場長）。１９８９―９３年Ｍｉｃｒｏ Ｍａｓｋ Ｉｎｃ．（米）：ＬＳＩフォトマスク、新型プローブカードの技術開発（Ｅｘｅｃｕｔｉｖｅ Ｖｉｃｅ Ｐｒｅｓｉｄｅｎｔ ＆ Ｃｈｉｅｆ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｏｆｆｉｃｅｒ）。１９９３―９５年ＨＯＹＡ（株）：新型プローブカードの製品開発（電子事業部プロジェクトリーダ）。１９９５―２００２年（株）日本マイクロニクス：新型プローブカードのフォトリソ技術開発（技師長）。２００２―０３年（株）スピナカー・システムズ：ＬＳＩ設計用ＥＤＡ、ＩＰの輸入販売（代表取締役社長）。２００３年～現在、（有）ＩＴコンサルティング：フォトマスク、ＭＥＭＳ、実装用フォトリソ等の技術コンサルティング。シニアパワーの有効活用化システム確立推進（代表取締役社長）
竹花洋一［タケハナヨウイチ］
１９６９年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻（修士）卒業。１９６９―９０年（株）日立製作所：当初電子計測器開発に従事。１９７５年以降大型コンピュータ向けＬＳＩ用フォトマスクの技術開発と製造に従事。１９９７―１９８１年電子線マスク描画技術開発のため（株）コンピュータ総合研究所本部研究部に出向（デバイス開発センタ主任技師）。１９９０―２００４年ＨＯＹＡ（株）：ＬＳＩ用フォトマスクの技術開発ならびに製造に従事（八王子工場長）。１９９４―２００１年ＰＭＪ実行委員会委員。１９９９年～現在、半導体技術ロードマップ専門委員会委員（ＳＴＲＪ‐ＷＧ５）。２００４年～現在、ＭＥＴ研究所：マスク技術関連コンサルティングに従事（所長）
法元盛久［ホウガモリヒサ］
１９７４年早稲田大学理工学部物理学科卒業。１９７４―２０００年（株）日立製作所：半導体用フォトマスクの技術開発と製造に従事（半導体事業部マスクセンター長）。２０００年～現在、大日本印刷（株）：半導体用フォトマスクおよび電子線リソグラフィ用マスクの技術開発に従事（主席研究員）。１９９４―２００６年ＰＭＪ論文委員会委員（２００５―２００６年論文委員会委員長）。２００６～現在、ＰＭＪ実行委員会副委員長（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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