内容説明
本書は、プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマＣＶＤとエッチング技術の基礎を整理、解説したものである。
目次
第１章 プラズマと半導体プロセス
第２章 半導体プロセス用プラズマの基礎
第３章 半導体プロセス装置の概要
第４章 プラズマＣＶＤ技術
第５章 薄膜の評価方法
第６章 プラズマエッチング技術
第７章 付章 プロセシングプラズマを理解するための基礎理論
著者等紹介
市川幸美［イチカワユキミ］
１９８０年武蔵工業大学大学院電気工学専攻博士課程修了。工学博士。１９８０年カナダＹｏｒｋ大学実験宇宙科学研究センターおよびＭｃＭａｓｔｅｒ大学物理工学科のポストドクトラルフェロー。１９８２年米国Ｗｒｉｇｈｔ州立大学Ｂｒｅｈｍ研究所研究員。専攻はプラズマ工学。１９８３年富士電機（株）入社。総合研究所にてプラズマＣＶＤおよびアモルファス太陽電池の研究開発に、また２０００年より同社半導体基盤技術開発部にてウェーハプロセス開発に従事。現在に至る。この間、応用物理学会誌編集委員、プラズマエレクトロニクス研究会幹事、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．論文編集委員などを歴任
佐々木敏明［ササキトシアキ］
１９９０年東京大学大学院工学系研究科電気工学専攻修士課程修了。工学修士。２００１年学位取得、工学博士。１９９０年富士電機（株）入社。総合研究所にてアモルファス太陽電池およびプラズマプロセッシングの研究・開発に従事。２００１年鐘淵化学工業（株）入社。アモルファスシリコン／薄膜多結晶シリコンハイブリッド太陽電池の研究・開発に従事。現在に至る。１９９３年から１９９４年にかけて電子技術総合研究所非平衡材料研究室派遣研究員。専攻はアモルファス太陽電池、プラズマプロセッシング
堤井信力［テイイシンリキ］
１９６５年東京大学大学院電気工学博士課程修了。工学博士。１９６５年武蔵工業大学講師、１９６６年助教授を経て、１９７４年武蔵工業大学教授（電気電子工学科）、現在に至る。１９６６年から１９６８年にかけて、カナダＹｏｒｋ大学付属宇宙科学実験研究センター研究員、専攻はプラズマ工学、プラズマプローブ計測。電気学会プラズマ研究専門委員会幹事、委員長、応用物理学会プラズマエレクトロニクス研究会代表幹事など歴任
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