目次
第１章 薄膜作製・評価・微細加工技術
第２章 酸化物薄膜成長
第３章 酸化物ダイオード
第４章 酸化物トンネル接合
第５章 酸化物超格子と２次元電子系
第６章 酸化物電界効果トランジスタ
第７章 酸化物薄膜の不揮発性メモリ応用
著者等紹介
澤彰仁［サワアキヒト］
１９６７年鳥取県生まれ。１９８９年筑波大学第三学群基礎工学類卒業。１９９１年筑波大学大学院理工学研究科修士課程修了。通商産業省工業技術院電子技術総合研究所研究官。２００１年筑波大学博士（工学）。（独）産業技術総合研究所主任研究員。２００２年～２００３年アウグスブルク大学客員研究員。２００８年（独）産業技術総合研究所研究グループ長。２０１５年（国研）産業技術総合研究所副研究部門長（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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