目次
第1章 薄膜作製・評価・微細加工技術
第2章 酸化物薄膜成長
第3章 酸化物ダイオード
第4章 酸化物トンネル接合
第5章 酸化物超格子と2次元電子系
第6章 酸化物電界効果トランジスタ
第7章 酸化物薄膜の不揮発性メモリ応用
著者等紹介
澤彰仁[サワアキヒト]
1967年鳥取県生まれ。1989年筑波大学第三学群基礎工学類卒業。1991年筑波大学大学院理工学研究科修士課程修了。通商産業省工業技術院電子技術総合研究所研究官。2001年筑波大学博士(工学)。(独)産業技術総合研究所主任研究員。2002年~2003年アウグスブルク大学客員研究員。2008年(独)産業技術総合研究所研究グループ長。2015年(国研)産業技術総合研究所副研究部門長(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
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