内容説明
ドライプロセス表面処理技術は、めっきを中心とするウェットプロセスとともに、薄膜材料形成に広く使われている。エレクトロニクス分野、光学分野、機械分野だけでなく、医療や食品分野までもその活用が期待されている。
目次
第1章 ドライプロセスの基礎
第2章 ドライプロセスの特徴と種類
第3章 物理蒸着(PVD)法
第4章 化学蒸着(CVD)法
第5章 ドライプロセス表面加工法
第6章 ドライプロセス表面改質法
第7章 ドライプロセスの応用
第8章 機能性薄膜
第9章 ドライプロセスの最新技術・研究