出版社内容情報
ＥＤＡ技術，超微細化技術を必要とするプロセス技術に焦点を当て，システムＬＳＩの全貌を図解で解説．@@項目 システムＬＳＩのＥＤＡ設計（論理回路からＬＳＩへ 高速・低電力ＭＯＳ技術ほか） システムＬＳＩの製造技術（前処理工程 組立・実装技術ほか）
内容説明
半導体は、２１世紀に向けて、ＩＣの集積化ともいうべき驚異的な性能を持つ革命ともいうべきシステムＬＳＩが登場しようとしている。このシステムＬＳＩでは、ワン・チップに１０億素子規模の集積が可能となり、これによりデジタル・テレビやマルチメディア・パソコンなどのシステム規模のＩＣが実現できるようになる。だが、これを実現するには、システム・レベルの膨大な電子回路をどのようにして設計するか、極限に迫る微細化プロセスをどのように構築するか、ということを同時に解決しなければならない。前者が新しいＥＤＡであり、後者が新しいプロセスということになる。本書は、この新しいＥＤＡと新しいプロセスについて、最新技術の一端に触れてみた。
目次
１ システムＬＳＩのＥＤＡ設計（システムＬＳＩとは；論理回路からＬＳＩへ；高速・低電力ＭＯＳ技術；システムＬＳＩ設計フロー）
２ システムＬＳＩの製造技術（前処理工程；ホト・リソグラフィ技術；微細化エッチング技術；熱酸化膜とＣＶＤ技術 ほか）
