出版社内容情報
【解説】
インターネットやIT技術の根幹をなしているのが半導体であり、その製造段階では極めて精密な製造プロセスの制御により、高均一で高品質の製品が製造されるようになってきている。このような高精度製造技術は液体や気体をコントロールすることにより、薄い膜を板状の半導体に作成することで実現する。本書では結晶成長を流れの視点から見て、重要な現象や非線形現象ゆえに必要な数値計算法についてわかりやすく解説する。また、最近注目を浴びているシミュレーション技術についても基礎から丁寧に記述。
【目次】
結晶成長と界面のダイナミクス・結晶成長と思考した流れの解析の基礎・単結晶成長における流れ解析からのアプローチ
目次
１ 結晶成長と界面のダイナミクス（不純物分布と流れ；磁場による流れ制御と不純物分布）
２ 結晶成長を思考した流れの解析の基礎（流れの解析とは；気相成長における流れの基礎；パソコンでできる数値解析法 ほか）
３ 単結晶成長における流れ解析からのアプローチ（結晶成長における流れの可視化；ＣＣＤビデオカメラによる可視化；数値シミュレーション ほか）
著者等紹介
柿本浩一［カキモトコウイチ］
１９８５年、東京大学大学院工学系研究科電子工学専門課程博士課程終了、工学博士。現在、九州大学応用力学研究所教授・工博
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