内容説明
次世代の超ＬＳＩプロセスを絵ときで解剖した半導体製造技術入門書。半導体関連システム、デバイスに携わる学生、初級～中級技術者、コンピュータ関連実務技術者の必読書。
目次
第１章 科学と技術の歩み（ルネッサンスの科学と技術；エレクトロニクスの芽生え；真空の場から固体の場へ）
第２章 ミクロプロセス入門（シリコン時代の幕開け；それぞれのプロセス―フォトリソグラフィ；それぞれのプロセス―ｐｎ接合；それぞれのプロセス―薄膜成長；それぞれのプロセス―内部配線；それぞれのプロセス―ウラわざプロセス；分析と評価；微細加工の新しい展開；ミクロにまつわる数のはなし）
