内容説明
LSIプロセスに応用されている物理・化学現象と、実際の装置・設備の両面から詳しく解説し、急速な技術の進歩に即応できる多方面の知識が得られる内容となっています。日進月歩の技術革新に対応して全面改訂!
目次
1章 概説
2章 LSI、超LSI基本プロセス概要
3章 LSI基本回路構成
4章 LSIプロセスの基礎
5章 リソグラフィ技術と装置
6章 LSIプロセス装置
7章 LSI、超LSIプロセス
8章 清浄化技術
9章 結言
LSIプロセスに応用されている物理・化学現象と、実際の装置・設備の両面から詳しく解説し、急速な技術の進歩に即応できる多方面の知識が得られる内容となっています。日進月歩の技術革新に対応して全面改訂!
1章 概説
2章 LSI、超LSI基本プロセス概要
3章 LSI基本回路構成
4章 LSIプロセスの基礎
5章 リソグラフィ技術と装置
6章 LSIプロセス装置
7章 LSI、超LSIプロセス
8章 清浄化技術
9章 結言