目次
１ 添加剤分析の意義と目的
２ 添加剤分析に使用する測定方法（赤外分光法；ラマン分光法 ほか）
３ 前処理（微細化、均質化；有機系添加剤の一般的な前処理法 ほか）
４ 各種添加剤の分析法（酸化防止剤；光安定剤（紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤）の分析法 ほか）
５ 高分子材料成形品の添加剤状態分析（赤外・ラマン分光法による添加剤状態分析；高分子添加剤の分布状態分析（ＸＰＳ、ＴＯＦ‐ＳＩＭＳ））
著者等紹介
西岡利勝［ニシオカトシカツ］
工学博士（東京大学）。高分子学会フェロー。元・出光興産株式会社総合開発センター材料研究所。現在、（株）日本サーマル・コンサルティング、米国Ａｎａｓｙｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ ｎａｎｏＩＲのコンサルティング。（独）製品評価技術基盤機構認定制度試験事業者（ＡＳＮＩＴＥ試験）にかかわる審査員および技術アドバイザー（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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