Einheitspatentrecht, Kommentar (Gelbe Erläuterungsbücher) (2026. 700 S. 240 mm)
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Einheitspatentrecht, Kommentar (Gelbe Erläuterungsbücher) (2026. 700 S. 240 mm)

Herausgegeben:Heinze, Christian/ McGuire, Mary-Rose/ Osterrieth, Christian/Mitarbeit:Heinze, Christian/ McGuire, Mary-Rose/ Osterrieth, Christian/ Dornis, Tim W./ Engel, Andreas/ Grabinski, Klaus/ Haft,

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Patent- und Gebrauchsmusterverletzung (Hagen Law School, Fachanwaltslehrgänge) (2., überarb. Aufl. 2009. 51 S. 23 cm)
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Patent- und Gebrauchsmusterverletzung (Hagen Law School, Fachanwaltslehrgänge) (2., überarb. Aufl. 2009. 51 S. 23 cm)  Paperback

Haft, Klaus/ Hahn, Tobias

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  • BWV - BERLINER WISSENSCHAFTS-VERLAG(2009発売)
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Patentrecht : Festschrift für Thomas Reimann zum 65. Geburtstag. Mit Beitr. in engl. Sprache (2009. XIV, 604 S. 24,5 cm)
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Patentrecht : Festschrift für Thomas Reimann zum 65. Geburtstag. Mit Beitr. in engl. Sprache (2009. XIV, 604 S. 24,5 cm)  Hardcover

Herausgegeben von Osterrieth, Christian/ Koehler, Martin/ Haft, Klaus

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Prozesskommentar Gewerblicher Rechtsschutz und Urheberrecht : ZPO mit spezieller Berücksichtigung des Patent-, Gebrauchsmuster-, Marken-, Design-, Geschäftsgeheimnisschutz-, Lauterkeits- und Urheberrechts sowie des UKlaG (Grauer Kommentar) (3. Aufl. 2022. XLVI, 1697 S. 240 mm)
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Prozesskommentar Gewerblicher Rechtsschutz und Urheberrecht : ZPO mit spezieller Berücksichtigung des Patent-, Gebrauchsmuster-, Marken-, Design-, Geschäftsgeheimnisschutz-, Lauterkeits- und Urheberrechts sowie des UKlaG (Grauer Kommentar) (3. Aufl. 2022. XLVI, 1697 S. 240 mm)  Hardcover

Herausgegeben:Cepl, Philipp Moritz/ Voss, Ulrike/Mitarbeit:Cepl, Philipp Moritz/ Voss, Ulrike/ Augenstein, Christof/ Bacher, Klaus/ Cassardt, Gunnar/ Guhn, Jakob/ Haft, Klaus/ Hahn, Tobias/ Jacobs, Georg

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