内容説明
本書は、イオンビーム技術の発展を、その技術的背景もあわせて示しながら、イオンビーム技術に初めて接する初心者にもわかりやすく説明しています。
目次
１ イオンビーム技術の概要（イオンの発見；イオンビーム技術の誕生 ほか）
２ ガスクラスタービームの発生（ガスクラスタービームの発生の原理；ガスクラスターイオンビーム装置 ほか）
３ クラスターイオンビームと固体表面相互作用（クラスターイオンの個体表面衝突現象；ガスクラスターイオンの照射効果の特長 ほか）
４ ナノ加工プロセス応用（半導体デバイス応用；磁性・誘電体デバイス応用 ほか）
５ 産業用クラスターイオンビーム装置（ガスクラスターイオンビーム装置；デカボランイオン注入装置）
著者等紹介
山田公［ヤマダイサオ］
京都大学名誉教授。兵庫県立大学高度産業科学技術研究所客員教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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