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内容説明
反応性高速スパッタの実務アドバイス。
目次
第1部 基礎編(はじめに;スパッタリングの基礎知識;いろいろなスパッタ法;反応性高速スパッタ法)
第2部 実践編(ターゲットとカソード;アーキング対策とアノード;コンポーネント;膜質)
第3部 応用編(装置;測定;応用;未来へ)
著者等紹介
小島啓安[コジマヒロヤス]
1977年、東京都立大学大学院工学研究科工業化学専攻修士課程修了。キヤノン(株)に5年間在籍し、半導体露光装置用光学薄膜プロセス、膜設計の開発に従事する。また旭硝子(株)に12年間在籍し、建築用、自動車用硝子のスパッタプロセス、膜開発に従事する。その後、技術移転会社などを経て2003年に独立。スパッタリングプロセス、薄膜に関するコンサルタント会社として(有)アーステックを設立。2009年8月より名古屋大学客員准教授。2012年3月名古屋大学より学位取得(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
※書籍に掲載されている著者及び編者、訳者、監修者、イラストレーターなどの紹介情報です。