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Patent- und Gebrauchsmusterverletzung (Hagen Law School, Fachanwaltslehrgänge) （2., überarb. Aufl. 2009. 51 S. 23 cm）
  • 洋書

Patent- und Gebrauchsmusterverletzung (Hagen Law School, Fachanwaltslehrgänge) （2., überarb. Aufl. 2009. 51 S. 23 cm）  Paperback

Haft, Klaus/ Hahn, Tobias

  • ウェブストア価格 ¥2,549（本体¥2,318）
  • BWV - BERLINER WISSENSCHAFTS-VERLAG（2009発売）
  • ポイント 23pt
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Patentrecht : Festschrift für Thomas Reimann zum 65. Geburtstag. Mit Beitr. in engl. Sprache （2009. XIV, 604 S. 24,5 cm）
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Patentrecht : Festschrift für Thomas Reimann zum 65. Geburtstag. Mit Beitr. in engl. Sprache （2009. XIV, 604 S. 24,5 cm）  Hardcover

Herausgegeben von Osterrieth, Christian/ Koehler, Martin/ Haft, Klaus

  • ウェブストア価格 ¥43,722（本体¥39,748）
  • HEYMANNS（2009発売）
  • ポイント 397pt
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Prozesskommentar Gewerblicher Rechtsschutz und Urheberrecht : ZPO mit spezieller Berücksichtigung des Patent-, Gebrauchsmuster-, Marken-, Design-, Geschäftsgeheimnisschutz-, Lauterkeits- und Urheberrechts sowie des UKlaG (Grauer Kommentar) （3. Aufl. 2022. XLVI, 1697 S. 240 mm）
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Prozesskommentar Gewerblicher Rechtsschutz und Urheberrecht : ZPO mit spezieller Berücksichtigung des Patent-, Gebrauchsmuster-, Marken-, Design-, Geschäftsgeheimnisschutz-, Lauterkeits- und Urheberrechts sowie des UKlaG (Grauer Kommentar) （3. Aufl. 2022. XLVI, 1697 S. 240 mm）  Hardcover

Herausgegeben:Cepl, Philipp Moritz/ Voss, Ulrike/Mitarbeit:Cepl, Philipp Moritz/ Voss, Ulrike/ Augenstein, Christof/ Bacher, Klaus/ Cassardt, Gunnar/ Guhn, Jakob/ Haft, Klaus/ Hahn, Tobias/ Jacobs, Georg

  • ウェブストア価格 ¥70,009（本体¥63,645）
  • BECK JURISTISCHER VERLAG（2022発売）
  • ポイント 636pt
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