出版社内容情報
【セールスポイント】
真空技術の最新技術と関連データを網羅した集大成版!
【発刊の目的と内容】
「真空ハンドブック」は平成4年11月30日に初版が発行され、その後長らく読者諸氏より好評を博してきた。
しかし、この間の技術的進展は大きく、また、経済・産業上の環境も大幅に変化して来たことを受け、このたび今日的観点で初版の内容・収録データの見直しを行い、「新版 真空ハンドブック」として発刊するもの。
【購読対象者】
真空技術関連の各種応用技術に関わる実務技術者
真空技術関連分野の技術者・研究者・学生
内容説明
本書は、半導体製造、成膜、分析等に係る真空装置の構築・設計の現場で必要となる分野を中心として編集したものである。
目次
第1章 真空の基礎
第2章 真空用部品
第3章 真空用構成材料
第4章 熱
第5章 低温
第6章 プラズマ・イオンビーム
第7章 表面分析
第8章 薄膜・表面加工
第9章 応用